Cleaner主要产品概要

清洁产品面向高精细化和高功能化的显示屏、半导体及电子器件市场以日本化药独有的开发力为武器，目前已拥有优越性能的产品阵容，对电子工业产业整体的发展作出贡献。

当前，产品已被显示领域与半导体领域的厂商所广泛使用。

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液 晶

适用于 LCD 彩色滤光片的显影液产品系列。 运用独特的浓缩技术与表面活性剂最优化配比技术，对于细微的 BM 显影，也可实现良好的显影性。

（1）HAC：混合了活性剂的负胶型显影液，用于LCD彩色滤光片RGB的光刻胶。通过表面活性剂的效果，可以实现细线宽的显影。可改善显影效果偏差。

（2）DX：混合了活性剂的负胶型显影液，用于RGB。拥有优异的显影性能，由于是高浓缩型，因此可减少药剂的使用量。产品属于有机碱类，因此对金属的腐蚀性弱，可对应COA（Color Filter On Array）型制程。

用于制程返工的剥离液。具有极低的对玻璃刻蚀速率，可对应RGB,BM,UV cure/Heat cure OC, PS等各种抗试剂，剥离性能强。

一种有机型清洗液，适合去除轻油及油脂、磨料、薄膜浮垢、废纸尘埃等各种污渍 。

半 导 体
我们拥有应对于高精细光刻工艺的各种显影液、剥离液的产品。此外还包括在WLP工艺中使用的厚膜负性光刻胶以及干膜光刻胶用剥离液、干式蚀刻后残渣去除液等。还可以提供符合各种法律规定的产品以及不含NMP等环境友好型的药液。

用于图像传感器的彩色滤光片、以及用于铝布线防腐蚀功能的TMAH型产品系列。

混合了有机碱和活性剂的负胶/正胶型显影液。用于半导体和分立器件的制造工艺。选用可以优化光刻胶分散性的活化剂，不会在图形上留下光刻胶残留物，并且可以去除因光刻胶引起的细小气泡，可直接进入下一道工序。

（1）常规级光刻胶用剥离液

         NK poleve 517

         NK poleve PRS100

用于去除常规的液态光刻胶。

（2）高性能光刻胶剥离液

         NK  poleve 496

         NK  poleve 480

可去除DRIE等工艺对应改性变质的光刻胶，厚膜型液态光刻胶也可对应。

（3）干膜用剥离液

         NK poleve 117

         NK poleve SH

专门用于去除干膜的剥离液产品系列。